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●   产品介绍
半导体双氧水主要应用于晶圆制造、LCD、硅晶片蚀刻清洗工艺等
UP-S级：适用0.35-0.8微米集成电路加工工艺,金属杂质含量小于1ppb,经过0.05微米孔径过滤器过滤，控制0.2微米粒子,在100级净化环境中灌装达到SEMI C8标准。
U   P级：适用1微米集成电路及TFT-LCD制造工艺,金属杂质含量小于10ppb,经过0.2微米孔径过滤器过滤，控制0.5微米粒子,在100级净化环境中灌装,达到SEMI C7标准。
●   产品指标
●   产品包装
IBC 吨桶、ISO TANK
●   产品浓度
31%
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