半导体双氧水
电子级双氧水
工业级双氧水
● 产品介绍
半导体双氧水主要应用于晶圆制造、LCD、硅晶片蚀刻清洗工艺等
● 产品浓度
31%
● 产品指标
UP-S级：适用0.35-0.8微米集成电路加工工艺,金属杂质含量小于1ppb,经过0.05微米孔径过滤器过滤，控制0.2微米粒子,在100级净化环境中灌装达到SEMI C8标准。
U P级：适用1微米集成电路及TFT-LCD制造工艺,金属杂质含量小于10ppb,经过0.2微米孔径过滤器过滤，控制0.5微米粒子,在100级净化环境中灌装,达到SEMI C7标准。
● 产品包装
IBC 吨桶、ISO TANK
● 产品介绍
半导体双氧水主要应用于LCD、硅晶片蚀刻清洗工艺等
● 产品浓度
31% 60%
● 产品指标
UP级：适用1微米集成电路及TFT-LCD制造工艺,金属杂质含量小于10ppb,经过0.2微米孔径过滤器过滤，控制0.5微米粒子,在100级净化环境中灌装,达到SEMI C7标准。
EL级：金属杂质含量小于100ppb,控制1微米粒径粒子,达到SEMI C1 C2标准,适合中小规模集成电路及电子元件加工工艺 。
● 产品包装
IBC 吨桶、ISO TANK
● 产品介绍
工业级双氧水主要应用于纺织、造纸、水处理等行业
● 产品浓度
27.5%
● 产品指标
国家标准：GB/T 1616-2014
● 产品包装
槽罐、ISO TANK
